真空等离子体处理系统

【应用介绍】

真空等离子体处理是高端制造中精密材料表面处理的核心工艺，在真空腔体中形成低压等离子体，对精密零部件、半导体晶圆、医疗器械、光学元件进行超精密清洗、活化、刻蚀、去胶，无残留、无损伤，适配高端精密制造的超洁净处理需求。

【电源核心作用】

1.为真空腔体电极提供射频 / 脉冲高压，激发腔体内的工艺气体形成低密度、高活性真空等离子体，实现材料表面的超精密处理；

2.精准控制等离子体密度与能量，实现无损伤处理，避免精密零件、光学元件的表面损伤；

3.优异的放电稳定性，适配批处理式、在线式真空处理设备。

【差异化优势】

低气压稳定放电，高活性等离子体输出，宽功率线性调节，内置完善的保护机制，可适配不同容积的真空腔体，支持多腔体同步控制。

【原理说明】

通过高压电源在真空腔体中激发工艺气体形成低压高活性等离子体，利用活性自由基与材料表面的化学反应，以及高能粒子的物理轰击，实现精密工件的超精密清洗、活化、去胶、刻蚀，无化学残留、无表面损伤，适配高端精密制造的超洁净处理需求。

【应用场景】

半导体晶圆等离子体去胶、医疗器械超精密清洗、光学元件镀膜前处理、航空航天精密零件处理、MEMS 器件封装前处理。